产品名称 管式炉CVD系统 产品型号 TN-G1200ZC 产品简介 广泛用于各种反应温度在1100℃左右的CVD实验，也可用于：真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域。
TN-G1200ZC型1200℃管式炉CVD系统
该仪器可广泛用于各种反应温度在1100℃左右的CVD实验，也可用于：真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域。
技术参数：
1 | 产品名称 | |
2 | 产品型号 | TN-G1200ZC -503 工作室尺寸：直径50x300mm |
TN-G1200ZC -603 工作室尺寸：直径60x300mm | ||
TN-G1200ZC -803 工作室尺寸：直径80x300mm | ||
3 | 显示模式 | 触摸屏显示 |
4 | 炉膛模式 | 开启式 |
5 | 上限温度 | 1200℃ |
6 | 工作温度 | ≤1100℃ |
7 | 加热温区 | 单温区 |
8 | 温区长度 | 200mm |
9 | 恒温区长 | 100mm |
10 | 炉管材质 | 石英管 |
11 | 密封方式 | 不锈钢真空法兰 |
12 | 控温方式 | 智能化30段可编程控制，自动控温 |
13 | 控温精度 | ±1℃ |
14 | 加热速率 | ≤20℃ |
15 | 加热元件 | 进口合金加热丝 |
16 | 热电偶 | K型热电偶 |
17 | 炉膛材料 | 进口氧化铝陶瓷纤维 |
18 | 功率 | 2.5Kw |
19 | 气体通道 | 可连接3种气源 |
20 | 电源 | 220v 50Hz～60Hz |
21 | 系统真空 | -0.1MPa |
22 |
