箱式气氛炉 1200适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷 釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及需快速升温工艺要求的热处理,应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理,材料在惰性 气氛环境下进行烧结。
结构简介:
高温真空炉采用一体化设计,主体为炉体部份,控制系统悬挂于炉体右侧,开门方式为前部开门往右边打开式,操作便携,装卸料方便,炉体内部所有保温材料和加热元件均从炉体上部安装,配有活动盖板。控制系统箱体内装有各种控制元件,面板式操作,结构简洁美观。