真空气氛管式炉额定温度分别为1100℃、1400℃、1500℃、1600℃、1700℃，使用不同的加热元件，型号齐全，安全可靠，同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造，适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及需快速升温工艺要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备。
